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洁净棚中的四大污染来源

日期:2019-01-24 19:23
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摘要:
洁净棚的清洁与维护:
    人们常常会听到这样的说法:“洁净棚中的污染又看不见,有什么好清洁的呢。”“清洁前与清洁后的洁净棚都一样,所以不需要清洁”。其实,这两种说法都是错误的。洁净棚不仅仅是工业生产活动中的一个组成部分,也应当被看作是整个生产系统的中心部分,因为有一系列关键工艺必须在高洁净度的环境下才能进行。那么究竟有没有必要对洁净棚进行定期的清洁维护呢?
在讲到清洁维护的重要性之前,我们先来了解一下洁净棚中的四大污染来源。
   1、洁净棚中的工具、设备在运转的过程中会向洁净棚空间扩散尘埃粒子;
   2、洁净棚中的产品也会向洁净室空间扩散尘埃粒子;
  3、洁净棚中的设施,例如地面、墙面、天花板等;
    4、洁净棚中的人员更是污染的主要来源,洁净棚中的污染有80%都来自于人员散发的粒子
    既然洁净棚有这么多污染来源,为什么洁净棚“看上去”还那么干净呢?那是因为我们肉眼只能看到粒径大于50um的尘粒,需要用显微镜才能看到小于50um的尘粒。对于许多精密制造业来说,例如芯片制造业,任何大于0.1um的尘粒粒子都会对产品的品质产生影响。此时,就需要通过洁净室和污染控制技术来达到合格的生产环境。我们知道,洁净棚可以通过送风系统达到自净的目的,但是通过循环风系统只能去除一部分污染,仍会有大量的污染物在重力作用和布朗运动的作用下造成堆积。堆积在表面的污染物并不是静止不动的,污染物会通过表面直接或通过空气和人员等媒介间接地与产品发生“接触”,这种“接触”就会对产品造成污染,导致产品不佳。此时,对洁净室进行定期的清洁维护就显得非常有必要了。我们进行清洁维护的目的首先在于去除污染,已达到洁净室设计建造时预期的洁净度,洁净棚但*终还是为了保护我们的产品不受污染,从而提高产品的优率。 
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